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2014-10-23
真空鍍技術(shù)用于生產(chǎn)激光唱片（光盤(pán)）上的鋁鍍膜和由掩膜在印刷電路板上鍍金屬膜。在真空中制備膜層，包括鍍制晶態(tài)的金屬、半導(dǎo)體、絕緣體等單質(zhì)或化合物膜。雖然化學(xué)汽相沉積也采用減壓、低壓或等離子體等真空手段，但一般真空鍍膜是指用物理的方法沉積薄膜。真空鍍膜有三種形式，即蒸發(fā)鍍膜、濺射鍍膜和離子鍍。蒸發(fā)鍍膜通過(guò)加熱蒸發(fā)某種物質(zhì)使其沉積在固體表面，稱(chēng)為蒸發(fā)鍍膜。這種方法最早由M.法拉第于1857年提出，現(xiàn)代已
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2014-10-23
真空設(shè)備制造產(chǎn)業(yè)發(fā)展研究報(bào)告闡述了世界真空設(shè)備制造產(chǎn)業(yè)的發(fā)展歷程，分析了中國(guó)真空設(shè)備制造產(chǎn)業(yè)發(fā)展現(xiàn)狀與差距，開(kāi)創(chuàng)性地提出了“新型真空設(shè)備制造產(chǎn)業(yè)”及替代品產(chǎn)業(yè)概念，在此基礎(chǔ)上，從四個(gè)維度即“以人為本”、“科技創(chuàng)新”、“環(huán)境友好”和“面向未來(lái)”準(zhǔn)確地界定了“新型真空設(shè)備制造產(chǎn)業(yè)”及替代產(chǎn)品的內(nèi)涵。根據(jù)“新型真空設(shè)備制造產(chǎn)業(yè)”及替代品的評(píng)價(jià)體系和量化指標(biāo)體系，從全新的角度對(duì)中國(guó)真空設(shè)備制造產(chǎn)業(yè)發(fā)展進(jìn)行
沈陽(yáng)優(yōu)必達(dá)真空設(shè)備有限公司是股份制企業(yè)。專(zhuān)業(yè)生產(chǎn)KT(凸腔)系列,KTA(凸腔矮泵)系列,KTD(凸腔低返油)系列高真空油擴(kuò)散泵、高真空油擴(kuò)散泵機(jī)組、DH系列多弧離子鍍膜機(jī)、磁控濺射鍍膜機(jī)、SDB系列水冷擋板和FDB系列低溫冷阱、GDQ系列高真空氣動(dòng)擋板閥、DDCY系列電磁壓差閥、QCF系列氣動(dòng)充氣閥以及形狀各異的高真空容器。
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專(zhuān)業(yè)生產(chǎn)KT(凸腔)系列,KTA(凸腔矮泵)系列,KTD(凸腔低返油)系列高真空油擴(kuò)散泵、高真空油擴(kuò)散泵機(jī)組、DH系列多弧離子鍍膜機(jī)、磁控濺射鍍膜機(jī)、SDB系列水冷擋板和FDB系列低溫冷阱、GDQ系列高真空氣動(dòng)擋板閥、DDCY系列電磁壓差閥、QCF系列氣動(dòng)充氣閥以及形狀各異的高真空容器。
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